1、半导体关联靶材：电极、布线薄膜：铝靶材，铜靶材，金靶材，银靶材，钯靶材，铂靶材，铝硅合金靶材，铝硅铜合金靶材等。
储存器电极薄膜：钼靶材，钨靶材，钛靶材等。
粘附薄膜：钨靶材，钛靶材等。
电容器绝缘膜薄膜：锆钛。
真空镀膜：一种产生薄膜材料的技术。
在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。
此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导。
镀膜颜色不同，操作也不相同，多弧离子反应镀膜设备可镀那些色彩？3.镀金色∶用钛靶材,真空度抽至1.5×10-2Pa,充Ar(氩气)至1×10-1Pa镀60秒 —关氩气(Ar)—开氮气至2~4×10-1Pa镀4分钟左右.(产生 TiN化合物)4. 镀古铜色∶用一半钛靶材,一半钛铝靶材,充 Ar(氩气)至 1×。
我碰到过一次氮化钛靶材打磨后，表面是一片黑，感觉是那些小黑点被磨平了，然后溅射一个小时打掉表面那层，这时候靶材表面比较干净，但再溅射做样品，表面又逐渐出现小黑点，电阻率比刚买回来的时候高一倍左右；氮化钛跑道发。